マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」
マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去
TWC-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。 本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。 特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮しました。 オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけ。 危険な薬品に曝される事も無く安全性を高め、露光プロセスの品質向上と歩留まり向上に大きく貢献いたします。
- 企業：株式会社テクノビジョン 本社
- 価格：応相談
