ナノリソグラフィ用パターンジェネレーター
お手持ちのSEMにリソグラフィ機能を拡張
RAITH社設立の原点である「ELPHY」は、世界で最も実績のあるパターンジェネレーターです。 簡単な単一フィールド描画から、複雑で自動化された多層・多フィールドパターニング、計測まで幅広く対応します。 既存のSEM／FIB-SEM本来の機能を維持しながら、ナノリソグラフィ機能を追加するアクセサリです。 RAITHのソフトウェアプラットフォーム「RAITH Nanosuite」の採用により、CADレイアウト作成から自動露光、計測までをシームレスに統合します。 • システム制御、パターンおよびジョブの準備、自動化 • CADレイアウトから自動露光・自動計測までのシームレスな統合 • プロ仕様のGDSII対応インテグレーテッド・デザインエディタ／ビューアを搭載 • 真の3Dナノ加工への対応 • 近接効果補正（PEC: Proximity Effect Correction）機能をオプションで追加可 • 高度な描画ストラテジーの定義・設定機能 • 高精度なオーバーレイ／多層リソグラフィ対応
- 企業：伯東株式会社 本社
- 価格：応相談
