両面マスクアライナー
両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。
- 企業:ウシオライティング株式会社
- 価格:応相談
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両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。
露光光源照度分布は±5%以内!デスクトップ型と自立型のモデルをラインアップ
『BA100/160/200』は、上下両面に高位置精度パターニングするマニュアル型の両面マスクアライナーです。 デスクトップ型でウェハサイズ4inの「BA100」と6inの「BA160」に加え、 自立型でウェハサイズ8inの「BA200」をラインアップ。 また、アライメント精度はTop-sideにて±2μm、Bottom-sideにて±5μm としております。 【仕様(抜粋)】 ■ウェハサイズ:4in/6in/8in ■露光光源照度分布:±5%以内 ■露光解像度 ・ソフトコンタクト:L/S 3μm ・ハードコンタクト:L/S 1μm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。