分子線エピタキシー(MBE)装置
コンパクトなサイズ(1インチ〜2インチ)対応のMBE装置です。
●特徴 本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源(クヌーセン・セル)により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有機金属を使用するガスソースMBE装置などがございます。
- 企業:北野精機株式会社
- 価格:応相談
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コンパクトなサイズ(1インチ〜2インチ)対応のMBE装置です。
●特徴 本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源(クヌーセン・セル)により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有機金属を使用するガスソースMBE装置などがございます。