卓上型ＵＶ照射装置 MUV
試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置
大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず 高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置 【特徴】 ○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板（試料）にUV照射を行い 表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能 ○基板（試料）ホルダーの上下、または取替えが容易なため 厚みのある基板（試料)を処理することが可能 ○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより 高いクリーニング効果を得られる ○基板（試料）セット後の処理は自動運転が可能です ○卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエ ハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適 ○ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理 的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られる ○有機汚染物質はガス化して排気される為 有機汚染物質の再付着が起こらない ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
- 企業：株式会社メープル
- 価格：応相談
