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上下加熱、最高400℃までの加熱に対応、卓上型リフロー炉（加熱炉）
昇温速度と温度均一性の更なる向上を目的に、SVO-1の上位機種として 新たにラインナップに追加した卓上型リフロー炉 SVO-1 Plusです。 炉内の上下にヒーターを配置し、各ヒーター出力も個別に設定できます。 対象ワークに適した加熱温度設定やヒーター出力の最適化により、 サイクルタイムの短縮およびワーク温度の均一性の向上を図ることができます。 リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での長時間運転も可能なため、 基板の乾燥や、熱硬化等の用途にもご利用いただけます。 【特長】 ■基板の上下加熱に対応 ■ 各ヒーター出力の設定が可能 ■ 最大400℃までの加熱に対応 ■ 最大8ゾーンまでの温度プロファイル設定 ■ 一定温度で最長10時間までの継続運転 ※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。
400℃までの加熱に対応、卓上型リフロー炉（加熱炉）
標準で250x330mmまでの実装基板や平板状ワークの加熱が行える卓上型加熱炉です。加熱温度プロファイルは8ゾーンまで設定可能。リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での長時間運転も可能なため、基板の乾燥、アンダーフィル材やダイボンディングペーストの熱硬化等の用途にもご利用いただけます。
＜研究開発や実験、評価など、非生産用途での大幅にコストを抑えたい＞という要望にお応え！最低限の機能が備わった搬送型卓上リフロー炉
超低価格を実現！ 加熱3ゾーン+250mm幅メッシュ搬送、最低限の機能が備わった 『コンパクト卓上リフロー炉』の販売を開始しました。 【特徴】 ■一般的な鉛フリープロファイルから均一加熱プロファイルまで対応 ■研究開発・実験・試作・評価など非生産用途での使用環境に好適 ■各種カスタマイズ対応はお問い合わせください 価格・納期・プロファイル測定・実機見学・デモ実施などお気軽にお問い合わせください。 ※加熱炉の新規用途も募集中。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、当社までお問い合わせください
炉長が短く、上下温度変更可のため、量産前のデータ収集にも好適！
「卓上リフロー炉」は、基板予備加熱やハンダ付工程で使用されています。 最近では破壊試験用途で使用されるケースが多くなっております。 昇温曲線から160℃～180℃キープ(第一段階)、240℃～260℃キープ (照射エンド)。基板の形状によっては、熱風を併用したものも提案可能。 また炉長が短く、上下温度変更可のため、量産前のデータ収集にも好適で、 高精度の温度分布とコンパクト設計で人気の機種です。 【推奨マシン】 ■品名：卓上リフロー炉 ■型式：USTR-1210-NET III ■使用熱源：ウルトラサーモIII A 上下各5枚 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
