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非接触厚み及び形状計測センサーについて掲載しています！
当資料は、CHRocodileシリーズをご紹介しています。 「CHRocodileの測定原理」をはじめ、「干渉センサー」や 「CHROMATIC VISION CAMERA」などについて掲載。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容(抜粋)】 ■CHRocodileの測定原理について ■原理1：共焦点位置測定モード(表面形状・粗さ測定) ■CLS外観 ■CLS用プローブ ■CLSコントローラー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
半導体向けインプロセス中におけるウェハー厚み測定センサーのご紹介！
当資料は、ウェハー厚み測定センサーについて掲載しています。 接触ゲージとの置換に好適な「CHRocodile 2シリーズ」をはじめ、 半導体インプロセス向け光学測定ヘッドのデザインなどをご紹介。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■CHRocodile 2シリーズ ■半導体インプロセス向け光学測定ヘッドのデザイン ■利点：色収差共焦点原理による使用 ■利点：分光干渉原理による使用 ■ウェハーインプロセス中のSi厚み測定データ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
光学式センサで、Si0.5~200umの広範囲の厚み測定。5kHzの高速サンプリング。加工中のモニタリング用途に最適。
非接触の光学厚み測定。高精度が求められる半導体ウエハの厚み測定でも適用可能。 新製品『CHRocodile 2 SX』は、ウエハやコーティングなど材料厚みを非接触測定できる装置です。最大5kHzと高速サンプリングが可能なため、インラインでも適用できます。Si等の半導体ウェハー厚み測定をはじめ、フイルム、樹脂、ガラス、太陽電池等の厚み測定も可能です。特に、ウエハグラインディング中に厚みモニタリングしたい場合には、Siウエハで200um~0.5umまで測定ができます。 【特長】 ■幅広い厚み測定範囲 、様々な材質に対応 豊富なプローブラインナップで、 厚みは、光学長で薄膜（数2um)～厚膜(1000um) Siで0.5~200umまで対応。 ■高分解能（サブミクロン 最小3nm @ 光学長） ■開発コスト低減、開発納期短縮に貢献できる、 装置組込み用のソフト開発キット（DLLなど)も用意 ■半導体業界で豊富な実績 ※詳しくは資料をご覧ください。
