多結晶シリコンSiポリシリコンターゲットN型P型NonDope
多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
■純度>99.999% ■密度(2.33/cm³) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業:株式会社スパッタコア 本社
- 価格:応相談
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多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
■純度>99.999% ■密度(2.33/cm³) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。