多結晶シリコンターゲット蒸着用CVD装置、アニール炉拡散炉などの装置の部材として使用、高い純度と熱特性が求められる用途に最適材料
■純度>99.999％ ■密度（2.33/cm³） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
■製造方法：溶解法と焼結法 ■様々な形状に対応可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
半導体デバイス エッチングマシン電極 ■用途 CVD装置、アニール炉、拡散炉などの装置の部材として使用されます。 高い純度と熱特性が求められる用途に適し、スパッタリング成膜プロセスで使用される材料として用いられ、 液晶製造装置の部品としても利用され、薄膜シリコン太陽電池の製造など、太陽光パネルの製造にも使用されます。 単結晶に比べて製造コストを抑えられるため、大量生産に適し、ギヤ、センサー、マイクロ静電モータなどのマイクロ構造体の研究や試作にも利用されます。
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企業情報
当社はターゲット材分野で長年に経験をもつ専門サプライヤーとして、高品質なスパッタリングターゲット原材料の選定、仕入れから倉庫管理、製造、品質検査までカバーする全体の品質管理体制を整え、且つ全ロット精密検査を行い、純度や密度、結晶粒径などの主要指標の高レベルを確保しております。 また、弊社はジルコニウムターゲット（Zr）、ハフニウム（Hf）、タングステン（W）、タンタル（Ta）などの規制対象材料について、法令で必要な輸出許可証を注文ごと取得しています。お客様の安定購入のため、購入先国の政策が変わっても、新しい規制政策を理解し、十分な在庫、柔軟な生産対応、迅速な物流で対応致します。これまでの実績でも、輸出規制の影響でお客様の生産スケジュールが滞ったことはなく、納期達成率はほぼ100%、また急な要望にも対応可能です。 お客様に対し安定供給の重要性を十分理解しており、その為に在庫管理、品質追跡システムを間断なく改善を進め、お客様に安心頂いております。 お客様事業の発展を第一に考え、法令遵守を前提とし高品質なターゲット材料を軸に、お客様にとって一番信頼できる長期パートナーであり続けます。
