【半導体向け】光干渉測定器『NCG』
サイクルタイムを短縮！半導体製造における膜厚測定に
半導体業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、ウェーハや薄膜の正確な膜厚測定が不可欠です。特に、微細化が進む中で、膜厚のわずかなずれが製品の性能に大きな影響を与えるため、高精度な測定が求められます。光干渉測定器『NCG』は、光干渉技術により、ガラス、プラスチック、シリコンウェハー等、異なる材質の厚みを管理するように設計されています。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における膜厚測定 ・薄膜形成プロセスの品質管理 ・半導体デバイスの製造における品質保証 【導入の効果】 ・目的の公差内の加工精度を保証 ・サイクルタイムを短縮 ・コントロールされた安定した生産を維持
- 企業：マーポス株式会社
- 価格：応相談
