【関西ものづくり新撰2023選定！】緻密＆平滑膜形成装置
驚くほど緻密で平滑な反応膜を実現した『アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置』
当社で取り扱う、『アーク放電型マグネトロンスパッタ装置』をご紹介します。 マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加 したことで、基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多くなり、 緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成できるようになりました。 また、コーティング面の仕上げ研磨が不要になったことで、耐久性も向上し、 省エネルギーに貢献しています。 【特長】 ■マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加 ■基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多い ■緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成 ■コーティング面の仕上げ研磨が不要 ■耐久性も向上し、省エネルギーに貢献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：神港精機株式会社 東京支店
- 価格：応相談
