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挙動解析ソフト(メッシュ) - 企業2社の製品一覧

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3次元希薄気体挙動解析ソフトウェア『RGS3D』

DSMC法を用いて中性粒子の密度、温度、圧力分布等を計算するソフトウェアをご紹介!

『RGS3D』は、DSMC法(粒子モデル)を用い、様々な真空装置内の希薄気体の 流れ場を解析するためのモジュールです。 気体を連続体であると見なして取り扱う、ナビエ・ストークス方程式の 適用限界を超えるKn(クヌーセン数;流れの希薄度を評価する無次元数、 Kn=平均自由行程長/流れの代表長さ)が、Kn > 0.01の場合の流れ場の 解析を得意としています。 また、Kn > 1となる場合は、高速なモンテカルロ法の選択が可能です。 【特長】 ■一般的な希薄気体条件下での電荷を持たない中性粒子の挙動を解析する ■新衝突計算法を指定することにより粘性流領域の解析も可能 ■任意形状の構造物、空間メッシュ分割による解析が可能 ■どのような混合ガスでも精度の良い解析ができる ■壁との衝突が支配的な場合は、高速なモンテカルロ法の選択が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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ダスト挙動の解析ソフト『DSMC-Neutrals』

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり,品質の悪い計算格子が有っても,必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子(原子)交換反応計算 ・GUI 上で,複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。

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