横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)
小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセスにもウェハプロセス(合金化や電極アニール)にも対応。
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のSiウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温(1000℃)均一加熱
- 企業:神港精機株式会社 東京支店
- 価格:応相談
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小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセスにもウェハプロセス(合金化や電極アニール)にも対応。
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のSiウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温(1000℃)均一加熱