光学レンズ・ガラス基板の水洗浄と溶剤による乾燥システム
HFE/HFC溶剤による乾燥システムは素早く水分を除去し、水染みの発生を抑えます。
光学レンズ等はアルカリ・酸・中性洗剤により洗浄され、その後、純水リンス工程を経て、HFE/HFC溶剤による乾燥システムに送られて来ます。乾燥システムに大量に持込まれる水は溶剤との比重差で簡単に装置外へと取り出す事が出来ます。洗浄後の水染み発生の原因は乾燥用溶剤中に徐々に溶け込んでいく微量の水分です。この水分を確実に低濃度に保つ事が水染み「０」に繋がるのです。弊社の開発した「水分除去装置（オプション）」を設備する事で確実・安心の乾燥工程が期待できます。 又、近日中に発売予定の「HFE／HFC中アルコール濃度自動管理装置」との組み合わせにより、より安心な乾燥システムが構築できる事になります。
- 企業：大川興産株式会社
- 価格：応相談
