HFE/HFC溶剤による乾燥システムは素早く水分を除去し、水染みの発生を抑えます。
光学レンズ等はアルカリ・酸・中性洗剤により洗浄され、その後、純水リンス工程を経て、HFE/HFC溶剤による乾燥システムに送られて来ます。乾燥システムに大量に持込まれる水は溶剤との比重差で簡単に装置外へと取り出す事が出来ます。洗浄後の水染み発生の原因は乾燥用溶剤中に徐々に溶け込んでいく微量の水分です。この水分を確実に低濃度に保つ事が水染み「０」に繋がるのです。弊社の開発した「水分除去装置（オプション）」を設備する事で確実・安心の乾燥工程が期待できます。 又、近日中に発売予定の「HFE／HFC中アルコール濃度自動管理装置」との組み合わせにより、より安心な乾燥システムが構築できる事になります。
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基本情報
水洗浄（アルカリ・酸・中性洗剤）＋純水リンス ⇒ HFE/HFC(５％アルコール）による乾燥システム 【特徴】 ○乾燥に必要なエネルギー消費量が削減されCO2の抑制に貢献 ○洗浄スピードが向上し量産が可能に ○安定した洗浄性が期待できます ○低温での乾燥で取扱いが容易になりました ○溶剤中の水分除去装置（オプション）は乾燥後の水染み「０」をお約束できます ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
価格情報
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納期
用途／実績例
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企業情報
大川興産株式会社が重要視しておりますテーマは３つの“R”です。 ◆Ｒ１-リサイクル（低ランニングコスト） 浄工程で使用します全ての溶剤を回収し、洗浄システムに戻します。 ◆Ｒ２−リペヤー（安定した生産） 敏速な保守・点検の対応を常に心がけております。 定期メンテナンスをお勧めしております。 製造工程のダウンタイムを防止します。 ◆Ｒ３−リダクション（エコ化の推進） 洗浄装置に係るエネルギー量と溶剤消費を削減します。