小型塩素炉|MOCVD治具・石英ボートの付着物除去に対応
GaN・AlN・Si系付着物をCl2/HClで塩化揮発し、治具をドライ洗浄
MOCVDやCVD工程で使用されるサセプタ、石英ボート、石英管、治具類には、GaN、AlN、Si系生成物、金属成分を含む反応生成物が付着する場合があります。 これらの付着物は、薬液洗浄や機械的な除去では落としにくく、母材の寸法変化、表面荒れ、破損、洗浄コスト増加につながることがあります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた選択塩素化により、付着物を揮発性塩化物へ変換し、母材への影響を抑えながらドライ洗浄条件を検討できます。 サセプタや石英治具を再利用したい場合、薬液洗浄を減らしたい場合、治具寿命を延ばしたい場合に適した小型試験炉です。 【特長】 ■ Cl2/HClによる乾式塩素化洗浄に対応 ■ GaN、AlN、Si系付着物、金属成分の除去を検討可能 ■ 薬液洗浄では難しい堆積膜・反応生成物に対応 ■ 母材の寸法変化・表面荒れを抑えた条件検討が可能 ■ 少量治具で温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
- 企業:株式会社サーモニックENG
- 価格:応相談