真空対応フィードバックステージのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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真空対応フィードバックステージ - メーカー・企業と製品の一覧

真空対応フィードバックステージの製品一覧

1~11 件を表示 / 全 11 件

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真空対応1nmフィードバックステージFS-1040UPX(V)

[1nm分解能]真空中で使用できるリニアエンコーダ内蔵ステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 動作範囲が40mmとなっており位置決めと移動が1台でできます。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等な特徴を備えています。

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真空対応10nmフィードバックステージ 20mm動作

【真空中で使用可能】10nm分解能で動作するリニアエンコーダ内蔵の高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを10nm分解能で位置決めができます。

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真空対応サブミクロンフィードバックステージ 20mm動作

【真空で使える】サブミクロン分解能のフィードバックステージ

内蔵の光学式リニアエンコーダでステージのテーブルの位置を検出して、コントローラに位置情報をフィードバックしているため高分解能で位置再現性に優れています。 ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため 位置の保持性に優れています。 アウトガス対策として潤滑材、線材やモーター等を真空対応品に変更しているため、真空チャンバー内で使用可能です。 20mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で 制御することが可能です。(コントローラによって変わります)

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真空対応1nmフィードバックステージFS-1020UPX(V)

【真空で使用可能】1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバー内で使用可能です。 リニアエンコーダを内蔵しているため、クローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。

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真空対応1nmフィードバックステージFS-1050UPX(V)

[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等の特徴を備えています。

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真空対応5nmフィードバックステージ 50mm動作

真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応5nmフィードバックステージ 40mm動作

真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 40mm動作

【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。

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真空対応10nmフィードバックステージ 100mm動作

【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ

アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが1台で可能だったり、広範囲のデータ(スペクトル等)が必要な場合に有効です。

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真空対応10nmフィードバックステージ 昇降タイプ

【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ

光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。

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真空対応10nmフィードバックステージ 微小回転タイプ

【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ

光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。

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