真空対応10nmフィードバックステージ 微小回転タイプ
【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応フィードバックステージ(顕微鏡) - メーカー・企業と製品の一覧
真空対応フィードバックステージの製品一覧
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真空対応10nmフィードバックステージ 昇降タイプ
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
真空対応1nmフィードバックステージFS-1050UPX(V)
[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等の特徴を備えています。
- 企業：シグマ光機株式会社
- 価格：応相談
