【半導体検査向け】50N高推力・真空仕様有りのアクチュエータ
最大12 mm/s・50 N高推力。半導体検査工程に最適なサブナノ分解能PICMAWalkアクチュエータ。
半導体製造業界では、製造プロセスの高度化に伴い、ウェーハやマスクの位置決めにおける高精度な制御が不可欠です。特に、微細加工や検査工程においては、ナノメートルレベルでの正確な位置決めが製品の品質と歩留まりを左右します。位置決めの精度が低いと、不良品の発生や製造効率の低下につながる可能性があります。N-331 PICMAWalkは、最大50 Nの高推力とサブナノメートル分解能を両立した組込み型リニアアクチュエータです。最大12 mm/sの高速動作に対応し、検査装置のタクトタイム短縮にも貢献します。 摩擦駆動方式により電源オフ時でも位置保持が可能。さらに真空対応仕様により、半導体検査装置やクリーン環境下での使用にも適しています。 【活用シーン】 ・半導体製造装置におけるウェーハ位置決め ・マスクアライナーにおける位置決め ・検査装置における高精度位置決め 【導入の効果】 ・ナノメートルレベルでの高精度な位置決めを実現 ・製造プロセスの品質向上と歩留まり向上に貢献 ・真空環境下での使用が可能 推力特性、その他仕様、真空対応オプションなどの詳細はカタログをご確認ください。
- 企業:ピーアイ・ジャパン株式会社
- 価格:応相談