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研究開発スパッタ装置 - 企業2社の製品一覧

製品一覧

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研究開発用スパッタリング装置

コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装置 サンプルテスト&装置見学対応中

少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現 8インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりMEMS・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応 電子部品の量産対応実績を持つバッチタイプスパッタリング装置シリーズ

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研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッタリング装置です。

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載(±5%以内(SiO2でφ170mm以内)) ■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能 ■用途 ・有機EL 太陽電池 光学部品 バイオ 半導体・電子部品  自動車・樹脂 特殊膜 MEMS ■代表的な成膜材料 ・誘電体膜ほか  SiN SiO2 ZrO TiO2 重合膜 ・透明導電膜  ITO ZnO ・金属膜ほか  Au Ag Cu Si Ti Sn Cr Al Ni DLC 電磁波シールド

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