純水加温装置『HDW III』
シリコン基板の温純水洗浄や温純水引き上げ乾燥に適した純水加温装置！
『HDW III』は、半導体製造プロセス/太陽電池製造プロセスにおける シリコン基板、液晶製造プロセスにおけるガラス基板等の洗浄で使用される 超純水を、石英ガラス容器内でカーボンヒーターにより非接触でクリーン 加熱する装置です。 PID制御による±1°の安定した温度制御と起動から使用温度まで120秒以内の 昇温が可能。また、幅広い使用流量・温度に対応し、流量変化に対応した 温度調整もできます。 【特長】 ■クリーン加熱 ■高効率で省エネ ■高性能温度調整 ■使用流量に応じた充実したラインアップ ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
- 企業：ワイエイシイメカトロニクス株式会社 つくば事業所 PV事業部
- 価格：応相談
