シリコン基板の温純水洗浄や温純水引き上げ乾燥に適した純水加温装置！
『HDW III』は、半導体製造プロセス/太陽電池製造プロセスにおける シリコン基板、液晶製造プロセスにおけるガラス基板等の洗浄で使用される 超純水を、石英ガラス容器内でカーボンヒーターにより非接触でクリーン 加熱する装置です。 PID制御による±1°の安定した温度制御と起動から使用温度まで120秒以内の 昇温が可能。また、幅広い使用流量・温度に対応し、流量変化に対応した 温度調整もできます。 【特長】 ■クリーン加熱 ■高効率で省エネ ■高性能温度調整 ■使用流量に応じた充実したラインアップ ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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基本情報
【ラインアップ】 ■HDW III-12 ■HDW III-18 ■HDW III-24 ■HDW III-36 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■シリコン基板の温純水洗浄 ■液晶用ガラス基板の温純水洗浄 ■フォトマスクの温純水洗浄 ■フロン系洗浄に代わる温純水洗浄 ■温純水引き上げ乾燥に使用 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
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企業情報
当社は、3つの事業部により構成されており、世界シェア約100％の ハードディスク用バーニッシャー装置、半導体向けテストハンドラ、 外観検査装置、各業界向け自動化装置、世界トップクラスシェアの 高発電効率太陽電池ウエハ用テクスチャリング装置、各種精密洗浄装置、 乾燥装置等を製造しています。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。
