【分析事例】ARXPSによる極薄膜の組成分布評価
基板上の極薄膜についてデプスプロファイルを評価可能！
弊団では、ARXPS(角度分解XPS)による極薄膜の組成分布評価を 承っております。 X線照射によって放出される光電子を取出角ごとに検出し、 それぞれ検出深さの異なるスペクトルを用いて サンプル表面極近傍のデプスプロファイルを評価。 従来のArイオンスパッタを用いた方法と比較すると、 深さ方向分解能が向上し、かつ選択スパッタやミキシングによる 組成変化が無いといったメリットがあり、基板上の極薄膜(数nm程度)の デプスプロファイル評価に有効です。 【測定法・加工法】 ■[XPS]X線光電子分光法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
- 価格：応相談
