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多点マッピング測定により膜厚分布を可視化
蛍光X線分析（XRF）では、元素分布や膜厚の簡便な評価が可能です。 本事例では、金属薄膜の評価事例として、4inchのSiウエハ上のAuの膜厚分布について多点マッピング測定をした事例をご紹介します。 多点マッピングを行うことで、各点のXRFスペクトルよりFP(Fundamental Parameter)法を用いてAu膜厚を算出し、測定座標より膜厚分布の評価をすることが可能です。
照射X線により発生する蛍光X線を検出し、エネルギーや分光結晶で分光することによって、元素分析や組成分析を行う手法です
蛍光X線分析（XRF： X‐ray Fluorescence）は照射X線により発生する蛍光X線を検出し、エネルギーや分光結晶で分光することによって、元素分析や組成分析を行う手法です。 ・測定範囲の全エネルギー（Na～U）が同時に短時間で測定可能 ・未知試料の分析に適している ・非破壊分析 ・特殊な試料を除き、前処理不要、大気中での分析が手軽に行える ・ハンドヘルド型の装置で動かせない大型試料の元素分析が可能
当社保有の要素技術を結集！軽元素から中重元素分析まで幅広い高感度測定が可能！
『OURSTEX180』は、L線専用、モノクロメーターを搭載した エネルギー分散型蛍光X線分析装置です。 軽元素から中重元素分析まで、幅広い高感度測定が可能。 オイル中のS、CI分析や、セメント・焼却灰中の軽元素分析、 フィルム上の微量軽元素分析、膜厚分析などに適しています。 【特長】 ■コンパクトで可搬性に優れる ■L線専用2重湾曲モノクロメーター搭載 ■Pd-Lα単色励起により軽元素の検出感度が向上 ■高性能SDD検出器・高計数率対応DSPを搭載 ■フィルター機能により中重元素の分析も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
自動コリメータおよびフィルタースイッチを搭載した据置型蛍光X線分析装置
当社では、内蔵SNEにより、信号処理能力が旧型と比較して最大25倍に 向上した据置型蛍光X線分析装置『EDX2800B』を取り扱っています。 コリメーターとフィルターは、異なるアプリケーションに対応するオートスイッチ。 また、フレンドリーなソフトウェアインターフェースにより操作性の簡便性の 向上に貢献します。 【適用分野】 ■RoHS対象元素の分析 ■鉱物及び合金（銅、ステンレス鋼等）の成分分析 ■金、白金、銀等の貴金属及び各種宝石の含有量試験 ■金属のメッキ膜厚の測定 ■主にRoHS関連産業、貴金属及び宝石加工産業、銀行、試験機関、電気メッキ産業 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
貴金属の組成分析やメッキ厚さの測定が非破壊で行えます！
「FISCHERSCPOE(R) X-RAY XAN(R)215」は、エネルギー分散型蛍光X線分析器です。 貴金属の組成分析やメッキ厚さの測定が非破壊で行えます。 対象元素はCl(17)からU(92)までで、24元素を同時に分析が行えます。 主な測定対象としては、ジュエリー・貴金属および歯科用合金、イエロー・ホワイトゴールドなどの金性、プラチナおよび銀、ロジウムメッキされた金や銀合金、合金組成および皮膜厚さ測定、多層の皮膜厚さ測定などです。 【特長】 ○優れた精度と長期安定性 →再校正にかかる時間と労力を節約できる ○最新のシリコンPin検出器が高い精度と検出感度を達成する ○フィッシャーのFP法は固体や液体に関わらず、 皮膜の厚さまで理論計算で分析が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
