装置用静電チャック - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

半導体製造装置用静電チャック　

半導体製造装置向け静電チャックです。 大気～高真空　極低温～高温-100～200℃で運用が可能です。導体~絶縁体基板　吸着可能

半導体製造装置内で運用する静電チャックです。 大気～高真空　極低温～高温-100～200℃で運用が可能です。また　導体~絶縁体基板まで幅広い材質が吸着できます。 ・Si 化合物半導体 サファイヤ 水晶 LT LN 半導体向け基板　導体から絶縁体まで吸着が可能です。 ・接着剤フリーの為　極低温領域-100℃でも運用が可能です。 ・弊社特有技術　ワークと静電チャック接触界面のみで保持力が働くため、裏面側の影響をうけません(裏面帯電等の影響なし）