酸化アルミ(Al2O3)ターゲット
チップ製造における絶縁膜や、その他の高性能電子部品の製造、センサー、ソーラーパネル、ディスプレイなどの光学機器の表面改質に!
■純度>99.9% ■密度(3.95 g/cm³) ■製造方法:粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業:株式会社スパッタコア 本社
- 価格:応相談
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チップ製造における絶縁膜や、その他の高性能電子部品の製造、センサー、ソーラーパネル、ディスプレイなどの光学機器の表面改質に!
■純度>99.9% ■密度(3.95 g/cm³) ■製造方法:粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。