シリコンウェハーへの酸化膜受託加工サービス（研究、開発、量産用）
試作対応 少量対応 4～12inch対応 任意膜厚(10nm～20μm) 基板手配可能 支給基板対応 短納期
当社は設立以来、一貫としたシリコンウェハーへの酸化膜加工を行っています。 試作などの少ロットから量産移行後の数量までお応えできます。 また、膜厚についても、他の企業ではマネのできない厚膜加工まで取り揃えており、お客様のあらゆるニーズにもお応えできるようにしております。 特に、当社独自の厚膜熱酸化膜形成技術は光通信を支える光デバイスに欠かす事のできない材料となっており、当社の製品･技術が世界の通信機器メーカーや光部品メーカーに採用されています。
- 企業：セーレンＫＳＴ株式会社 本社
- 価格：応相談
