試作対応 少量対応 4～12inch対応 任意膜厚(10nm～20μm) 基板手配可能 支給基板対応 短納期
当社は設立以来、一貫としたシリコンウェハーへの酸化膜加工を行っています。 試作などの少ロットから量産移行後の数量までお応えできます。 また、膜厚についても、他の企業ではマネのできない厚膜加工まで取り揃えており、お客様のあらゆるニーズにもお応えできるようにしております。 特に、当社独自の厚膜熱酸化膜形成技術は光通信を支える光デバイスに欠かす事のできない材料となっており、当社の製品･技術が世界の通信機器メーカーや光部品メーカーに採用されています。
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企業情報
セーレンＫＳＴ株式会社は、世界中のお客様へ酸化膜を中心としたシリコンウェハーへの様々な成膜加工サービスを提供しております。 当社の代表的な加工品でもある厚膜熱酸化膜は、５Gやデータセンターなど、市場が拡大中の光通信部品になくてはならない重要な材料として世界中のお客様へ出荷しております。また、それを応用したSOIウェハーも品質や短納期を実現し、MEMSやパワー半導体向けに試作（小ロット）から量産まで対応できる生産量を有しています。 当社はこれからもシリコンウェハーの成膜加工を通して、広く社会に貢献する、お客様になくてはならない企業を目指しています。