金属蒸着セル(クヌーセン・セル:K-セル)
金属蒸着セル
【特長】 ICF-70によるコンパクト/省スペース設計 シャッター機構標準装備 ±0.1℃による温度設定が可能 ●応用材料 ・Si (Silicon) ・As (Arsenic) ・Ga (Gallium) ・Al (Aluminum) ・In (Indium) ・P (Phosphorus) etc ※仕様に合わせて任意のストローク、形状等承ります。
- 企業:北野精機株式会社
- 価格:応相談
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金属蒸着セル
【特長】 ICF-70によるコンパクト/省スペース設計 シャッター機構標準装備 ±0.1℃による温度設定が可能 ●応用材料 ・Si (Silicon) ・As (Arsenic) ・Ga (Gallium) ・Al (Aluminum) ・In (Indium) ・P (Phosphorus) etc ※仕様に合わせて任意のストローク、形状等承ります。
改善成功事例 事例2 金属蒸着セル KMDW-Cell
◆◇◆経緯◆◇◆ 従来使用している金属蒸着方法は、ボート式であり、金属膜を蒸着する際に、 100A以上もの大電流を印加している。ボート式は、初心者でも容易に蒸着可能であるが、 大電流を使用することで、膜質に悪影響をもたらす要因と考えられる。 また、蒸着の際の飛散量が激しく、チャンバー内のメンテナンスが頻繁に必要となり、 綺麗な環境での使用は困難となっている。