研究開発用小型現像装置 ＨＰＤ４０
研究開発用小型現像装置 ＨＰＤ４０
【工程】投入→現像→液切→水洗１→水洗２→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500ｍｍ 厚み0.4〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1420×L1950×H1645ｍｍ ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能
- 企業：株式会社二宮システム
- 価格：100万円 ~ 500万円
開発小型現像装置 - 企業1社の製品一覧
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研究開発用小型現像機 ＳＰＤ４０
研究開発用小型現像機 ＳＰＤ４０
【工程】投入→現像→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500ｍｍ 厚み0.4〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1300×L1590×H1215ｍｍ ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能
- 企業：株式会社二宮システム
- 価格：100万円 ~ 500万円
