研究開発用小型現像装置 ＨＰＤ４０
【工程】投入→現像→液切→水洗１→水洗２→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500ｍｍ 厚み0.4〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1420×L1950×H1645ｍｍ ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能
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基本情報
◆ファインパターン対応のノズル配置により高精度な現像が可能 ◆独立圧調により高精度な現像が可能（上スプレー） ◆狭いスペースでも設置可能 ◆ファイン対応のノズル配置により高精度な現像が可能 ◆標準機だから短納期 ◆仕様に合わせたカスタマイズが可能 ◆各種現像液に対応可能
価格情報
４５０万〜５００万円（装置本体価格）
価格帯
100万円 ~ 500万円
納期
※３〜４ヶ月間
用途／実績例
◆量産ライン設置前の条件出し ◆材料・薬液の評価・研究用 ◆基礎研究・開発 ◆品質管理 ◆少量生産
企業情報
◆FPC用 現像・エッチング・剥離装置/洗浄装置 ◆COF用 現像・エッチング・剥離装置/洗浄装置 ◆FPD(TFT/PDP)用 現像・エッチング・剥離装置/洗浄装置 ◆太陽電池用 洗浄装置 ◎ファイン化技術 ノズル配列、ノズル特性、オシュレーション、 圧力調整等、総合的に組み合わせて設計しなければファインは再現出来ません。 ◎薄板搬送技術 薄板をダメージ無く搬送するには、経験と実績が不可欠です。二宮システムでは創意工夫を加え、確実な搬送を実現しました。 ◎高信頼性 より高いレベルを目指して作られた装置は、お客様に安心してご使用頂けます。二宮システムは装置作りに手を抜きません。
