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高速レーザー描画装置 - 企業1社の製品一覧

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高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG+シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最適 ■どんな平面基板にも直接描画に対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 電子ビーム描画装置
  • その他半導体製造装置
  • ステッパー

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