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本セミナーでは、最新特許情報をもとに、ALE関連技術の研究開発動向を俯瞰的に整理します。 単なる装置技術としてではなく、 ・次世代半導体プロセスが求める加工要件 ・材料・表面処理技術への新たな要求 ・ALDからALEへと広がる原子レベル制御技術の潮流 ・ALD領域で先行する装置メーカー各社のALE関連動向 などを通じて、今後の技術進化や市場機会を読み解きます。 また、ASM International や 東京エレクトロン をはじめ、ALD分野で先行してきた装置メーカー各社の技術開発動向は、次世代半導体プロセスにおける加工課題や材料要求の変化を把握する上で重要な示唆を与えています。本セミナーでは、こうした主要プレイヤーの特許出願動向も踏まえながら、ALE技術の進化方向と関連市場への波及可能性について考察します。 装置メーカーのみならず、半導体市場への参入や用途展開を検討する材料メーカー、化学メーカー、部材メーカー、デバイスメーカーの研究企画・技術戦略部門に向けて、次世代半導体分野における研究テーマ探索や事業機会発見のヒントとなる内容を目指します。