ハニー化成の製品ラインアップ

『ハニレジストAP』は、ハニー化成の長年に亘り培われてきた、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術（電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術）を基本とし、開発された微細加工用ポジ型レジスト電着処理剤です。 プリント基板やCOF・TCPへの Reel to Reelによる高速処理（通電時間10秒で 膜形成が可能）・微細加工が可能です。 スルーホール内の処理能力にも優れ、3次元構造に対する塗膜形成が容易に 行えます。 【特長】 ■高速処理 ■高解像度 ■均一な塗膜厚 ■アルカリ現像、アルカリ剥離タイプ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『ハニレジストEシリーズ』は、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術（電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術）を基本として開発した微細加工用ネガ型フォトレジスト電着処理剤です。 他の電着液より密着性が優れているため、従来の不可能であった、めっき用マスク、エッチング用として好適です。 【特長】 ■3次元構造物への付き回り性 ■優れた密着性 ■高解像度 ■ピンホールレス ■耐薬品性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

弊社では、電着レジストを製造・販売しておりますが、お客様の中にはそもそもフォトレジスト自体をご存知ではない方も多くおられました。 そこで今回、基礎知識ページのニーズがあると考え、フォトレジストの基礎知識ページを作成させて頂きました。 皆様の中には、下記のようなことをお考えになられた方もいるかもしれません。 フォトレジストってそもそもどういうもの？ ネガ型とかポジ型とかよく分からない。。。 具体的なイメージが付かない。。。 ・ ・ ・ そういった方は、是非カタログをダウンロードください！！ また、電着レジストに関しての、技術的な相談も承っていますので、お問い合わせフォームからお問い合わせください。

【本製品は開発品となります】 アニオン電着のネガ型フォトレジストですので現像液・剥膜液はアルカリ性になります。 現像液・剥膜液は専用品ではありません。

半導体製造業界では、微細回路形成において、フォトレジストの正確な理解と適用が求められます。特に、回路パターンの精度は半導体デバイスの性能に直結するため、フォトレジストの特性や種類、そしてその工程における役割を把握することが重要です。不適切なフォトレジストの選定や使用は、歩留まりの低下や製品の品質問題につながる可能性があります。 本ページでは、フォトレジストの基本的な概念から、ネガ型・ポジ型の違い、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを網羅し、フォトレジストに関する疑問を解消します。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおける回路パターニング ・フォトレジストの基礎知識習得 ・電着レジストの導入検討 【導入の効果】 ・フォトレジストに関する理解の深化 ・適切なフォトレジスト選定の支援 ・製造プロセスの効率化と品質向上

プリント基板業界や配線パターン形成においては、微細で精密な回路形成が求められます。特に、フォトレジストは、回路パターンを基板上に転写するための重要な材料であり、その特性を理解し適切に扱うことが、製品の品質と信頼性に直結します。不適切なフォトレジストの選定や使用は、回路の欠陥や性能低下の原因となり得ます。本ページでは、フォトレジストの基礎知識を解説し、お客様の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・フォトレジストの基本的な仕組みを知りたい ・ネガ型とポジ型の違いを理解したい ・具体的な工程イメージを把握したい 【導入の効果】 ・フォトレジストに関する理解を深められる ・回路形成プロセスの最適化に役立つ ・製品の品質向上につながる

ロボティクス分野、特に小型アクチュエータの製造においては、精密な回路形成が求められます。微細なパターンを正確に転写する技術は、アクチュエータの性能や信頼性に直結します。不適切なフォトレジストの選定や使用は、回路の不良や製品寿命の低下につながる可能性があります。当社のフォトレジスト基礎知識集は、これらの課題に対し、フォトレジストの基本から理解を深めることで、最適な材料選定と工程設計をサポートします。 【活用シーン】 ・小型アクチュエータの精密な回路パターン形成 ・半導体製造プロセスにおける微細加工 ・研究開発段階での材料評価 【導入の効果】 ・回路形成の精度向上 ・製品の信頼性・性能維持 ・開発プロセスの効率化

MEMS分野の微細構造加工においては、高精度なパターン形成が求められます。特に、微細な回路や構造を正確に作り出すためには、フォトレジストの特性理解と適切な選定が重要となります。不適切なフォトレジストの使用や、工程の誤りは、微細構造の再現性やデバイス性能に影響を与える可能性があります。本ページでは、フォトレジストの基礎知識から、種類、工程イメージ、塗装方法、そして当社の電着レジストの特長までを解説し、MEMS分野における微細構造加工の課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・MEMSデバイスの試作・開発 ・微細な回路パターンの形成 ・高精度な構造加工が必要な製品開発 【導入の効果】 ・フォトレジストに関する基礎知識の習得 ・ネガ型・ポジ型の理解促進 ・工程イメージの具体化 ・液状フォトレジストの塗装方法の理解 ・電着レジストの特長把握

マイクロエレクトロニクス業界、特に高密度実装においては、微細な回路パターンを正確に形成するための技術が求められます。フォトレジストは、この微細加工プロセスにおいて、露光によるパターン形成を可能にする感光性材料として、その役割は非常に重要です。不適切なフォトレジストの選定や使用は、回路の精度低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社は、電着レジストの製造・販売を通じて、お客様の高度なニーズにお応えしてまいりました。この度、フォトレジストの基礎知識に関する情報提供の重要性を鑑み、本基礎知識ページを作成いたしました。フォトレジストの基本的な仕組み、ネガ型・ポジ型の違い、具体的な工程イメージ、そして液状フォトレジストの塗装方法について解説しています。さらに、当社の電着レジストの特長についてもご紹介しておりますので、ぜひカタログをダウンロードください。 【活用シーン】 ・半導体製造における微細回路パターニング ・高密度実装基板の製造プロセス ・電子部品の精密加工 【導入の効果】 ・回路パターンの精度向上 ・製造プロセスの安定化 ・製品の信頼性向上