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特徴 ◆一般の単結晶ダイヤモンド粒子に比べて、研磨力が長持ち、長寿命。 ◆傷がつきにくく、より細かい仕上面が得られる。
特徴 ◆ダイヤモンド砥粒を厳選して、仕上性能が高い。 ◆分散性が良く、安定した研磨力が得られる。 ◆ワークや用途に合せて製作可能。
特徴 ◆優れた研磨レート。 ◆凝集しない、高分散性。 ◆均一かつ良好な仕上げ面が得られる。
特徴 ◆粒子径の均一性(シャープな粒子径分布、真球状の粒子)。 ◆高能率(独自な配合、pHが変動しない)。 ◆高平坦度(表面品質:Ra<0.2nm、TTV<3μ)。 ◆循環使用回数が多い。 ◆低温ポリッシュ加工可能(35℃以下)。 ◆SICウェハー加工用に特殊配合したスラリーをご提案。 ◆窒化アルミニウム加工用に中性・弱酸性のスラリーを対応可能。
◆専用のルブリカント配合で研磨効率に優れる。 ◆循環使用回数を増加させる。 ◆破片率を低下させ、もっと良いTTVを得られる。 ◆冷却性と潤滑効果に優れる。 ◆砥粒の分散性が良く、沈降しにくい。
特徴 ◆チップポケットを持ち、目詰まりしない。 ◆凹凸研磨層が自鋭性を持ち、寿命が長い。 ◆表面平坦度が良く、パネル表面に傷を付け難い。 ◆研磨力及びクリーニング効果に優れる。
特徴 ◆優れた洗浄効果により異物や汚れ除去に最適。 ◆特殊に設計された構造により、研磨材の脱落を防止。 ◆精選された織布をベースにして、スクラッチを防止。
特徴 ◆研磨後に鏡面効果を得る。 ◆植毛基材のため、チップポケットによる異物を除去しやすい、傷を付け難い。 ◆製品のクッション性が高く、パネルへのダメージが少ない。 ◆ハイコストパフォーマンスを持つ。
特徴 ◆バラツキが少なく、品質が安定。 ◆強度及び柔軟性に優れ、研磨特性を最大限に活かせる。 ◆研磨効率が高く、耐久性に優れ、生産コストの低減に寄与できる。 ◆乾式研磨にも水及びオイルを使用する研磨にも適用できる。
特徴 ◆静電塗布された砥粒により、均一で安定した仕上がりを実現。 ◆表面の溝により、研磨屑をからめとり、スクラッチを防止。 ◆水、油に強いポリエステルベースにより、湿式研磨にも適応。 ◆耐磨耗性に優れ、長寿命。
◆バラツキが少なく、品質が安定。 ◆強度及び柔軟性に優れ、研磨特性を最大限に活かせる。 ◆研磨効率が高く、耐久性に優れ、生産コストの低減に寄与できる。 ◆乾式研磨にも水及びオイルを使用する研磨にも適用できる。
特徴 ◆単結晶ダイヤモンドスラリー 単結晶ダイヤモンドスラリーは、高い研削力を持ち、低コストの加工が可能なため、幅広く硬質材料の研削・研磨に使われています。 ◆RCDダイヤモンドスラリー RCDダイヤモンドスラリーは、自社製RCDダイヤモンドパウダーと高度の分散技術で調和しており、スクラッチが入りにくく、分散安定性が高いダイヤモンドスラリーをご提供致します。主にサファイア、セラミック、硬質合金などの研磨加工に最適です。
特徴 ◆自社合成・精製・分級・調和技術(GRISH製)を使用。 ◆高分散性、スクラッチが入りにくい。 ◆研磨レートが高く、表面仕上げに優れる。 ◆ロット間の品質安定性を確保。 ◆豊富なラインナップをご提案可能。
特徴 ◆加工過程中に粒子と加工物の接触点が多く、研磨効率を高める。 ◆自鋭性を持ち、研磨持続力が高い。 ◆微小な切れ刃形状を持ち、表面粗さを抑える。 ◆粒子の真球度が高く、スクラッチを抑える。
特徴 ◆シャープな粒度分布、優れた品質の安定性。 ◆粒度が豊富で、用途に応じて最適な粒度・グレードをご提案。 ◆超硬合金、セラミック、金型、難削材など精密部品の研磨及び仕上に最適。
特徴 ◆分散性が高く、品質が安定している。 ◆粒度が細かく、比表面積が高い(300-420m2/g)。 ◆不純物含有量が高い(100PPM以下)。 ◆耐磨耗性、耐腐蝕性、熱伝導性に優れる。
特徴 ◆単結晶ダイヤモンド粒子と比較して、より高い研磨速度が得られて、スクラッチが生じにくい。 ◆強度が高く、自鋭性を持ち、サファイア、精密セラミックなどのラッピングやポリッシングには最適。 ◆耐摩耗性に優れ長寿命。
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