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『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応（CVD）させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。 当技術は多くの結晶性酸化膜を成膜するのに適しており、これを応用展開 することで、太陽電池や燃料電池、有機デバイスなど様々な用途・産業分野 で利用することができます。 【特長】 ■液体、特に水から作る ■ミストの状態で原料を成膜室に供給可能 ■原料の安全性が高い ■真空ポンプが不要 ■大面積化・低コスト・小型化・高いスループットが実現可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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