液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術！
『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応（CVD）させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。 当技術は多くの結晶性酸化膜を成膜するのに適しており、これを応用展開 することで、太陽電池や燃料電池、有機デバイスなど様々な用途・産業分野 で利用することができます。 【特長】 ■液体、特に水から作る ■ミストの状態で原料を成膜室に供給可能 ■原料の安全性が高い ■真空ポンプが不要 ■大面積化・低コスト・小型化・高いスループットが実現可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【膜の種類】 ■酸化ガリウム ■酸化鉄 ■酸化クロム ■酸化シリコン・アルミ ■酸化マグネシウム ■酸化銅・ニッケル ■酸化チタン ■酸化インジウム ■酸化リチウム ■酸化亜鉛・酸化スズ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【応用例】 ■パワーデバイス ■LED用基板 ■半導体・磁性材料 ■耐腐食性膜・保護膜 ■絶縁膜 ■酸化物PVのP型伝導層 ■光触媒 ■ディスプレイ透明伝導膜 ■LIBの正極・負極・電解質 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
株式会社FLOSFIAは、ミストCVD成膜技術を基礎技術として、「パワーデバイス事業」と「成膜ソリューション事業」を展開している会社です。SiO2やAl2O3などの応用展開をはじめ、立体物・ポーラス膜・有機材料を基材とした成膜、金属酸化物のみならず金属メッキ・有機膜の成膜など、さまざまな技術を組み合わせて事業化に取り組んでまいります。
