テクノサーチの製品・サービス一覧

『TCR-3/TCH-3』は、研究室及び学生実験向け小型単結晶育成装置(CZ法)です。 加熱調節計には自動昇降温機能を搭載。 抵抗加熱式、誘導加熱式を選択できます。 また、コンパクト設計により操作性が向上しました。 なお「TCR-3」は抵抗加熱式、「TCH-3」は誘導加熱式となっております。 【特長】 ■コンパクト設計により操作性が向上 ■省エネ型 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他理化学機器

『TZM-1』は、研究室及び学生実験向け小型結晶育成装置です。 コンパクト設計により操作性が優れ、省エネ型。 加熱は自動昇降温ができます。 また、オプションによりTSSG法、BM法、LPE法、CZ法の育成実験が 出来ます。特殊仕様品製作も承りますので、是非お問い合わせください。 【製品仕様(一部)】 ■型式・名称：TZM-1 ■加熱方式：抵抗加熱(金属ヒータ) ■加熱温度：1000℃(Max.) ■アンプルサイズ：φ10×L100mm ■試料移動ストローク：300mm　など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他理化学機器

『TCH-20』は、前面扉式水冷ジャケットチャンバー方式により作業性が 向上した酸化物単結晶引き上げ装置です。 加熱温度は2100℃。装置重量の軽量化と性能向上をポイントに 装置設計の徹底を行いました。 また、特殊仕様製品の製作にも積極的に対応します。 是非お問い合わせください。 【特長】 ■前面扉式水冷ジャケットチャンバー方式により作業性が向上 ■装置重量の軽量化と性能向上をポイントに装置設計の徹底 ■使いやすい装置作りへのたゆまぬ改良 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 加熱装置

『TCA4-6C』は、安価なテトラアーク炉とのご要望を受け「TCA4-6型」の 各機能と特許“アーク電流制御”はそのままに、ゲッター機能を省いて コストダウンとコンパクト化を実現したテトラアーク式単結晶引上装置です。 引上げ駆動部とステンレスチャンバーを一体化することで軽量化。 試料の出し入れも簡単にできます。 尚、装置は炉体・制御部、電源部、手元操作ボックスより構成しております。 【特長】 ■コンパクト型 ■テトラアーク式による安定した溶解結晶育成が可能 ■アーク電流の精密制御 ■クリーンな高真空用に溶接ベローの採用 ■コンパクト型・省スペース設計で、清掃が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 加熱装置

『TCR-5C／TCR-15C』は、実験・研究用の小型シリコン単結晶育成装置(CZ法)です。 ステンレス製缶体内は、アルゴンガス雰囲気を制御可能。 発熱体はカーボンヒーターによる、抵抗加熱式です。 尚、炉内の温度制御は熱電対制御方式又は、電力制御方式となります。 その他の詳細は、お問い合わせください。 【構成】 ■単結晶引き上げ炉 ■制御盤 ■手元装置ボックス ■電源ボックス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 加熱装置

『TLR-12』は、安定した炉と制御系を搭載した磁性薄膜作製装置です。 生産用装置としての実績に基づく各種運転プログラムの組み込み易さを 向上。作業者と作業環境を保護するため装置全体をダクト付ケースに 収納しています。 尚、オプションにて液面検出機構の取り付けや、炉口シャッターを プログラム上に組み込むことが可能です。 【特長】 ■作業者と作業環境を保護するため装置全体をダクト付ケースに収納 ■実績を重ねて安定した炉と制御系 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 加熱装置

『TD-1M』は、線引き速度との連動ができる光ファイバー用の 巻き取り・巻き戻し装置です。 規定ピッチでボビンに巻き取りが可能。 また、スペアボビンに巻き戻し作業も可能です。 尚、製品サイズは、W1000×H1300×D800(1300)mmとなります。 その他の詳細は、お問い合わせください。 【特長】 ■線引き速度との連動可能 ■規定ピッチでボビンに巻き取り ■スペアボビンに巻き戻し作業も可能 ■ボビントラバースはオートリバース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他

『TOR-14』は、加熱温度2000℃(Max.)、1800℃(Nor.)の高温熱処理炉です。 省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計。 排気系はターボ分子ポンプ又はDPに変更が出来ます。 オプションとして、ルツボ形状選択や、真空排気ユニット取付、冷却水チラー取付をご用意しております。 【特長】 ■炉体、制御部一体化によるコンパクト設計 ■試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構による ■炉内温度分布の均一性 ■省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 加熱装置

『TMH-4-HP』は、高温・高圧で部分溶解する事ができる高圧溶解炉です。 加圧雰囲気は最大50kg/cm2、温度は最大1600℃まで上げることが可能。 高温・高圧による「傾斜機能材料」の製作に適しています。 また、傾斜組成を構築のためのホットゾーン部等に、当社の永年の 積み重ねによる工夫を凝らしております。 【特長】 ■高温・高圧で部分溶解する事が可能 ■高温・高圧による「傾斜機能材料」の製作に適する ■ホットゾーン部等に、当社の永年の積み重ねによる工夫を凝らしている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 加熱装置

『LFZ-Compact』は、出力半導体レーザを用いた浮遊溶融帯(FZ)方式の 単結晶育成装置です。 加熱部の観察用高精細カメラと、21.5インチ大型ディスプレイが装備 されています。(標準) 録画可能で、加熱部の監視および焦点、倍率、絞り調整は、お手持ちの スマートホンでできます。 【仕様】 ■レーザ照射光強度(下記のレーザ照射光強度が選択可能) 　・1)100W×5台照射ヘッド 計500W 　・2)125W×5台照射ヘッド 計625W 　・3)150W×5台照射ヘッド 計750W 　・4)200W×5台照射ヘッド 計1000W ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

当社は、新素材開発をお手伝いする各種材料育成装置の専門メーカーです。 半導体、酸化物、フッ化物等の各種結晶育成装置、光ファイバー線引き装置 および金属系結晶育成のアーク溶解引上げ装置など各種装置を オーダーメイドにより設計、製造します。 ご要望の際はお気軽にご相談ください。 【ラインアップ】 ■結晶育成装置 ■成膜装置 ■線引き装置 ■熱処理炉 ■関連機器　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置