『マグネトロンスパッタソース』は、金属・酸化物・半導体等の成膜用の スパッタリング用カソードです。 標準タイプのφ19コンプレッションポートより導入するカソードを始め、 既存装置に合わせた特殊仕様に対応。 ガス導入ノズル、シャッター、パーティクル対策シールド(PGシールド)、 超高真空対応などお客様のニーズに合わせて設計いたします。 【特長】 ■金属・酸化物・半導体等の成膜用 ■お客様のニーズに合わせて設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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当社では、ターボ分子ポンプとロータリーポンプを搭載した真空排気装置 『KST-F08VS-RKS型』を取り扱っております。 フルレンジゲージにより、大気周辺から高真空まで切替なしで 真空度をモニター可能です。 また、横幅270ｍｍとスリムなデザインなので狭い場所にも設置可能。 移動も容易に行えます。 【特長】 ■大気周辺から高真空まで切替なしで真空度をモニター可能 ■スリムなデザイン ■狭い場所に設置可能 ■移動も容易 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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