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Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社

住所東京都目黒区自由が丘3-2-17
電話080-4896-5740
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  • 公式サイト
最終更新日:2025/04/18
Siconnex Japan(サイコネックス ジャパン)合同会社ロゴ
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ウェットエッチング装置BATCHSPRAY Acid ウェットエッチング装置BATCHSPRAY Acid
ウェットエッチング装置BATCHSPRAY

ウェットエッチング装置BATCHSPRAY Acid

【効率的なウェットエッチング】 実績を拡大し続けているSiconnexは、半導体業界で信頼できるブランドであり、エッチング、洗浄、およびレジスト剝離の用途のためのソリューションを提供しています。 当社製品は費用対効果とサステナビリティを優先しており、当社の先駆的なアイデアを使用する世界中の大手半導体企業に大幅なコスト削減を約束します。 バッチスプレー装置でのウェットエッチングは、スループットが大きく、ケミカルの消費量が少ない特徴があります。ランニングコストの低減や環境対応をご検討の量産工場にはうってつけです。 またフットプリントが小さく、複数のプロセスを一台でこなせるため、クリーンルームのスペースが限られるファブにもおすすめしております。

ウェットプロセス装置『BATCHSPRAY Acid』

BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式ウェットプロセス装置】半自動装置

当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■最大150wphのスループット ■ばらつきが1%未満の均一性 ■設置面積2m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■sic/GaNでプロセス実行可能 ■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能 ■抽出可能なプロセスチャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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BATCHSPRAY Acid/Clean Autoload

BATCHSPRAY技術に100%フォーカス!水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

この3チャンバーシステムは、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムを使用することで、あらゆるタイプのウェットエッチングプロセスと洗浄アプリケーションに対応しています。酸/洗浄の組み合わせにより、高いプロセスの柔軟性と高いスループットを達成できます。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルなプロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。 【特長】 ■最大400wphのスループット ■2つの洗浄プロセスチャンバー ■ばらつきが1%未満の均一性 ■設置面積12m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■EPD-End Point Detection ※詳細はカタログをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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