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『KS-S100X』は、・超極薄・高精度・高安定性・高親水性・ スルホン酸単分子膜の極薄親水性化剤です。 マスクUV露光により高親水性・極薄スルホン酸パターンを自由に 高精度に形成することができます。 マイクロ流路の微細流路溝内部への極薄膜形成、高親水性化が容易で、親水性が長期に 安定のため、非特異的吸着抑制、流体制御の再現性が高いのが特長です。 【特長】 ■超極薄・高精度・高安定性・高親水性・スルホン酸単分子膜 ■マスク露光により高親水性・極薄スルホン酸パターンを自由に高精度に形成可能 ■微細流路内部への極薄膜形成、高親水性化が容易 ■親水性が長期に安定のため、非特異的吸着抑制、流体制御の再現性が高い ■透明性、耐薬品性、耐熱性にも優れる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 連絡先:キヨスミ研究所 小林 kobayashi.at@docomo.ne.jp TEL:070-2190-1122