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当社は、反早退材料のソリューションプロバイダーとして、お客様の 個別ニーズに最適化したシリコンウェーハをを提供しております。 主な製品として、高度な結晶成長技術を用いた12インチ以下のポリッシュド ウェーハや、単層・多層・超厚膜成膜が可能なエピタキシャルウェーハが ございます。 また、パワー半導体向けのSOIウェーハ、電源や光通信ユニットに応用 される高品質なGaNエピタキシャルウェーハも展開しております。 【特長】 ■垂直統合された高度な技術力 ■多様なニーズに応える幅広いラインアップ ■お客様本位の高度なカスタマイズ支援 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。