【特長】 ●新型制御システムによるオペレータ負荷の軽減 ●排気・成膜速度向上による生産時間の短縮 ●新型光学膜厚計と新型モニターガラス機構により、 　膜再現性が向上 ●コンパクトな配置を実現

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≪独自に開発したＲＡＳ方式はさらに進化し、高規格の光学薄膜から 　　　　　　　　機能性装飾膜まで広範囲の成膜が可能になりました≫ ●波長シフトの無い高密度な光学薄膜形成が可能 ●中間屈折率を利用し光学薄膜設計が容易に ●再現性の良い２０nm以下の薄膜を利用し、 　光学薄膜設計どおりの成膜が可能 ●色の再現性が良い、ＲＧＢカラー着色が可能 ●低温処理によるプラスチックスへの成膜可能 ●ＣＯ2排出量を抑え、地球環境に配慮しました

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独自開発のRAS(Radical Assisted Sputtering）方式により波長シフトのない高品質な光学薄膜を低温で再現性良く実現でき、装飾膜、窒化膜などの機能性薄膜を実現できる中型量産用モデルです。

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この資料は、真空薄膜形成装置を利用して薄膜を作製する方々を対象に、 　■真空とはどのようなものか 　■真空を利用した薄膜形成技術にはどのようなものがあるのか 　■薄膜とはどのようなものか 　■薄膜形成に用いる装置はどのようなものか 　■真空装置を使用するにあたって注意すること 　■日常のメンテナンスについて　等 真空薄膜形成をする上での基本事項が書かれています。 この資料をお読みいただき、真空薄膜形成装置の性能を 最大限に活用していただければ幸いです。 　　　　〜資料をご希望の方は　「資料請求」　からお願い致します〜 ※シンクロンの真空薄膜形成装置ラインナップについては 　　「ダウンロード」　からご確認下さい。

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