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1.高さ35mm、極薄で床工事不要。物流倉庫の設置等に最適。 2.耐荷重500kg、カスタマイズ対応可能。 3.搭載駆動モータは400W。汎用モータ・サーボモータ等は選択。 4.制御方式は打合せにより決定。
ナノインプリントは、数十~数百nmの微細な凹凸形状で形成された モールドを樹脂材料に押し付けて形状を転写する、機械的な方法による ナノ構造加工技術です。 フォトリソグラフィと比較して、高価な光学機構が不要であり、 複数の工程を1工程に集約可能。 製造コストが安価であることなどが利点として挙げられます。 このインプリント技術をナノ領域だけでなくマイクロ領域まで 適応することにより、広範囲の分野で適用(研究開発)されています。 【ナノインプリントの利点】 ■フォトリソグラフィと比較して、高価な光学機構が不要 ■複数の工程を1工程に集約可能であるため、製造コストが安価 ■10nm程度の解像度を有しており、3次元構造の凹凸が形成された モールドにより、一度のプロセスで3次元構造が転写可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当社の『フィルムハンドリングシステム』についてご紹介いたします。 張力制御はパウダークラッチやテンションセンサを用いた フィードバック制御、ダンサー制御等に対応。 ロールの振れを抑える軸受の採用により安定したフィルム走行を行います。 【特長】 ■フィルム状基材に任意の処理を行う ■張力制御はパウダークラッチやテンションセンサを用いた フィードバック制御、ダンサー制御等に対応 ■ロールの振れを抑える軸受の採用により、安定したフィルム走行 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当社が製作した「高さ合わせ用自動大型Z軸ステージ」をご紹介いたします。 過半重量100kg、テーブルサイズ□400mm、ステージ高さ120mmに押さえた 薄型タイプ。ディスプレイ搬送時の高さ合わせに使用される水平面移動型 自動Z軸ユニットとなっております。 また、既成アクチュエータを用いずフレームと一体化させています。 【特長】 ■過半重量100kg、テーブルサイズ□400mm、 ステージ高さ120mmに押さえた薄型タイプ ■ディスプレイ搬送時の高さ合わせに使用される、 水平面移動型自動Z軸ユニット ■既成アクチュエータを用いずフレームと一体化させている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当社が製作した「両面顕微鏡測定用ユニット」をご紹介いたします。 オリジナル電動レボルバを採用。上下対物レンズの軸を高精度に 合わせることができます。 また、高速駆動可能な薄型フラットXYステージに高精度θ回転を 組み込んだオートステージとなっております。 【特長】 ■ワーク表裏面のパターンズレ測定 (サイズ:W500×D780×H700) ■オリジナル電動レボルバを採用 ■上下対物レンズの軸を高精度に合わせる ■高速駆動可能な薄型フラットXYステージに、 高精度θ回転を組み込んだオートステージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『CI-100』は、卓上型のバッジ式高機能低真空UVインプリント装置です。 材料評価 ・金型評価 ・相性評価 ・硬化条件 ・残膜条件等の基本的な 転写プロセスを誰もが手軽に検証可能。 機械加工された精密金型、ウエハモールドなど各種金型に対応。 多くのモード選択や設定の調整が出来ます。 1)自動モード:隙間量制御(Z軸) or 圧力制御(ロードセル) ・隙間量制御 基材(フィルム、ガラス等)とモールドの距離で制御 隙間量やUV照射前の隙間位置での保持時間設定 ・圧力制御 基材とモールドと接触後の圧力を検知し制御 2)真空ポンプのON/OFF、真空圧設定 3)上下面のUV照射のON/OFF、照射強度設定 4)Z軸スピード設定:低速中速高速を任意に設定 ※テスト対応可能(初回のみ無料) 【概略仕様】 ■ワークサイズ:120×120mm ■転写エリア:100×100mm ■真空度:1000Pa ■LED-UV:50mW/cm2×上下2面 365nm(他の波長はオプション) ■転写部:W360xD290xH465 45kg
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