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設立昭和59年8月1日(1984年)
住所東京都世田谷区喜多見1-18-6
電話03-3749-2525
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最終更新日:2025/05/26
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弊団では、X線回折・散乱技術を用いた高分子材料の階層構造評価を 行っております。 両親媒性物質が造り出す高次構造の違いにより皮膚組織に対する保湿性や 浸透性が変化することが知られており、これらの構造を把握することは 材料の機能性を評価する上で重要となります。 ~数nmの構造にはXRD(X線回折法)を、~数十nmの構造にはSAXS(X線小角散乱法)を 用いて、高分子の階層構造を評価した事例を紹介します。 【測定法・加工法】 ■[XRD]X線回折法 ■[SAXS]X線小角散乱法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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