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林純薬工業株式会社 電子材料部

資本金10000万
従業員数259名
住所大阪府大阪市中央区内平野町3-2-12
電話06-6910-7336
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最終更新日:2024/01/17
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各金属膜エッチング液 各金属膜エッチング液
現像液/剥離液 現像液/剥離液
テクスチャーエッチング液 テクスチャーエッチング液
粗面化エッチング液 粗面化エッチング液
受託加工 受託加工
低メタル(UHP)グレード薬品 低メタル(UHP)グレード薬品
各金属膜エッチング液

各金属膜エッチング液

各金属膜エッチング液の製品のご紹介です。

Alテーパーコントロールエッチング液

AlまたはAl合金膜を所望のテーパー角でエッチングします。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 所望のテーパー形状(テーパー角)を形成します。 ・ Al、Al合金膜を良好にエッチングします。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 キーワード:ウェットエッチング、アルミニウム

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Ag・Ag合金・Ag系積層膜エッチング液

Ag単膜、APC(Ag-Pd-Cu合金)などのAg合金膜単膜、またはAg/透明導電膜の積層膜エッチングに最適なエッチング液です。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ エッチングレートが安定しています。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 キーワード:ウェットエッチング、銀、APC

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Cuエッチング液「Pure Etch C series」

Cu、Cu合金膜を良好にエッチングします。標準的な薄膜のエッチング用とCu/Ti積層膜の一括エッチング用を取り揃えています。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 良好な順テーパーを形成します。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 キーワード:ウェットエッチング、銅

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Tiエッチング液標準品、Tiシード層エッチング液

Ti膜を良好にエッチングします。標準的な薄膜のエッチング用とTiシード層エッチング用を取り揃えています。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 ・ Cu/TiやW/Tiなどの積層膜に適しています。 キーワード:ウェットエッチング、チタン

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Wエッチング液「Pure Etch W series」

W膜を良好にエッチングします。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 良好な順テーパーを形成します。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 ・ エッチング後の残渣がありません。 キーワード:ウェットエッチング、タングステン

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Crエッチング液「Pure Etch CR series」

Cr膜を良好にエッチングします。微細パターン形成を検討される場合には、濡れ性向上のための前処理液のご提案も行っています。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 ・ BM(ブラックマトリクス)やフォトマスクのCrエッチングに適しています。 キーワード:ウェットエッチング、クロム

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ITOエッチング液「Clean Etch ITO series」

ITO膜を良好にエッチングします。a-ITOエッチング用とp-ITOエッチング用を取り揃えています。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ エッチング後の残渣がありません。 ・ 低発泡性であり、破泡性に優れています。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 キーワード:ウェットエッチング、酸化インジウムスズ

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Auエッチング液「Pure Etch AU series」

Au膜を良好にエッチングします。Auめっきへのダメージ少なく、Auシード層エッチングが可能なシード層用エッチング液もあります。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・低温、短時間での処理が可能です。 ・エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 ・微細なバンプ形成やパターン形成プロセスに適しています。 キーワード:ウェットエッチング、金、めっき、シード層、選択エッチング液

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Al・Mo・Mo/Al/Mo積層膜用標準品

Al、Al合金またはMo、Mo合金の単膜や、Mo/Al/Mo、Mo合金/Al合金/Mo合金などの積層膜を良好にエッチングします。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 良好な順テーパーを形成します。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 キーワード:ウェットエッチング、アルミニウム、モリブデン、AlCu、MAM、多層膜

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Agナノワイヤーエッチング液

Agナノワイヤー膜を良好にエッチングします。フルエッチング用とパーシャルエッチング用を取り揃えています。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 低温、短時間での処理が可能です。 ・ 組成や処理条件を調整することにより、フルエッチングすることも可能です。 キーワード:ウェットエッチング、銀ナノワイヤー、AgNW、SNW

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水晶エッチング液「Pure Etch ZE series」

レジストや金属膜(Au、Crなど)によるマスクを腐食することなく、水晶を従来品より平坦な底面形状でエッチングします。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・断面形状のテーパー角の角度差を従来品より低減可能です。 ・エッチング底面を従来品より平坦にエッチング可能です。 ・厚みの均一性が良好です。 キーワード:ウェットエッチング、水晶

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AlダメージレスSiエッチング液(異方性)

Al、Al合金膜を腐食することなく、Siを良好に異方性エッチングします。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 平滑なエッチング面の形成が可能です。 ・ デバイス表面の金属開口率に依存せずエッチングが可能です。 ・ エッチング液の劣化が少ないです。 ・ 前処理液として、Pure Etch ZE series( Alダメージレス絶縁膜エッチング液)の使用を推奨します。 キーワード:ウェットエッチング、シリコン異方性エッチング

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Siエッチング液(等方性)

Si膜を良好に等方性エッチングします。等方性エッチング液標準品のほか、Si基板の薄化に最適な薄化用エッチング液もあります。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・低温、短時間での処理が可能です。 ・エッチング後の表面は鏡面です。 キーワード:ウェットエッチング、シリコン等方性エッチング、シリコン基板薄化

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