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テルモセラ・ジャパン株式会社 本社

住所東京都中央区日本橋3-2-14  新槇町ビル別館第一 2階
電話03-6214-3033
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  • 公式サイト
最終更新日:2025/01/14
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  • 掲載年 : 2024年

46~60 件を表示 / 全 60 件

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Nanofurnace_220.jpg

◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆

  • 製品ニュース

多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】 ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。

2024年10月13日

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縦型拡散炉_iPROS_220.jpg

■□■ R&D用小型縦型炉 TVF-110 ■□■

  • 製品ニュース

ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能 小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験 【主な仕様】 ・炉内温度Max1200℃, 試料最大温度Max950℃ ・小片試料:数ミリサイズ〜3inchウエハーサイズまで対応 ・基板枚数:1〜3枚程度 ・石英サセプタ手動昇降式:停止位置目盛、クランパ付き ・炉芯管:Φ100 x Φ95 x 470L mm ・昇降:手動回転ハンドル ・温度調節:PIDプログラム温度調節計 ・熱電対:2対式K熱電対x1(制御用、過昇温用)、Kタイプ素線(炉芯測温用)

2024年10月13日

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iPROS_Thermocera-image-2.jpg

【テルモセラ・ジャパン】 研究開発用各種実験装置・温度計測機器

  • 企業ニュース

Endless possibility_thermal engineering いつの時代でも欠かす事のできない「熱」に対する尽きぬ需要、研究開発ニーズに少しでもお役に立てるべく、最新の熱エンジニアリング、温度計測技術を紹介してまいりたいと考えます。当社は放射温度センサ等の温度計測機器、半導体・電子機器基礎開発部門を支える、ヒーター、実験炉などを販売します。 ・CVD, PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター ・超高温小型実験炉 ・研究開発用薄膜実験装置 ・コンパクトシリーズ薄膜実験装置 ・赤外線放射温度センサー ・各種真空コンポーネント

2024年10月13日

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ST15A_iPROS-1.jpg

☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆

  • 製品ニュース

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置 抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) 【仕様】 ◉ 対応基板:〜Φ4inch ◉ スパッタリング:2"カソード x 最大3源 ◉ 真空蒸着:抵抗加熱蒸着(最大2)、有機蒸着(最大4) ◉ 7"タッチパネル操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 増設可能 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、レシピ作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多彩なオプションを用意 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール

2024年10月13日

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Cylindrical-heater 2.jpg

【Lab6放電プラズマ生成 熱電子銃用ヒーター】

  • 製品ニュース

真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃(グラファイト、C/Cコンポジット) ご要望の仕様にて都度製作致します。 さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。 円筒状加熱範囲内に、試料を入れた坩堝の加熱、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応じてカスタムメイド致します。 ◎ 使用可能環境:真空中, 不活性ガス中 etc.. ◎ 発熱体:Graphite, C/Cコンポジットヒーター、SiCコーティング、PGコーティング、タングステン、タンタル、など。 ◎ 製作範囲:ヒーター部(Φ150 x 100mm程度まで)導入フランジ、温度制御ユニット ◎ 用途:各種真空装置プロセスチャンバー内での試料加熱、放電プラズマ生成ユニット熱電子銃(Lab6)用、ガス供給系統配管急速加熱(液体急速気化) その他ご要望に応じ、特注仕様製作致します。詳細は当社までお問い合わせ下さい。

2024年10月13日

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mid-station-linear-load-lock-1.jpg

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab-E080A/S060A】

  • 製品ニュース

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能(写真下)。 1. MiniLab-E080A(蒸着装置) ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D(PMMA等のレジスト除去など)、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッチングプロセスも可能。(*メインチャンバーステージへも搭載可能です)

2024年10月13日

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1.jpg

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

  • カタログニュース

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

2024年10月13日

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Mini-BENCH.png

【超高温実験炉】シリーズのアップデート情報_2024.7

  • カタログニュース

お客様各位 当社では、従来品より更に高機能・操作性に優れた高温実験炉を近々にアップデートいたします。 本年9月末までに製品ラインナップを一新し、あらたな装置情報をご紹介できることと思います。 大学・研究機関向けの最小構成「Mini-BENCH」を基本とし、基本機能を充実、様々なオプション機能を追加します。 *主な改善点 ・ベンチトップフレームのデザイン変更 ・クラムシェル式チャンバー(ダンパー、orリニアドライブ式) ・プラグ&プレイ式、ポンプ・ゲージ等の交換・メンテナンス・増設などが容易になります。 ・APCプロセス圧力制御(PIDループ自動圧力調整:アップ or ダウンストリーム制御) ・TEシリーズ、MiniLab-CFを「Mini-BENCH-prism」と「MiniLab-WCF」に統合 研究開発のみに留まらず、工場・開発現場での試作・小規模生産に現場の厳しい安全規格にも対応致します。 アップデートまでしばらくお待ちください。 それまでの間現状製品で掲載継続しますが、ご要望がございましたら度対応しますので、まずは当社までご相談ください。

2024年10月12日

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TCF-C500_500x500.jpg

☆★☆ 【TCF-C500 超高温小型実験炉】Max 2900℃ ☆★☆

  • カタログニュース

コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉 小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。 実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子ポンプ ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発 ・燃料電池 ・その他

2024年10月12日

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2.jpg

◇◆◇ nanoPVD-S10A マグネトロンスパッタリング装置 ◇◆◇

  • 製品ニュース

研究開発用のRF/DCマグネトロン式スパッタリング装置です。 高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするコンパクトサイズ、7inch前面タッチパネルによる簡単操作。 ● 到達圧力 5x10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● 膜均一性 ±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● 3源カソード + MFCx3系統、RF/DC電源追加し、多層膜・同時成膜など多目的に活用頂けます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:2"(〜3源)、又は"(1源) ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ タッチパネル簡単操作 PLC自動プログラム制御 ◉ MFC高精度APC自動プロセス圧力コントロール ◉ MFC 最大3系統 ◉ USB端子付 Windows PC接続、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでライブデータロギング。 ◉ 真空系:TMP + RP(*ドライポンプオプション) ◉ 基板回転・上下昇降・加熱(Max500℃) ◉ 水晶振動膜厚モニタ/コントローラ

2024年10月12日

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iPROS_220.jpg

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

  • カタログニュース

OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用蒸着源を採用。 簡単タッチパネル操作でPLC自動制御、各種設定を一元管理。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 USBケーブルでPC接続、ログ・CSVファイル保存、成膜レシピを作成登録保存。 ◉コンパクトサイズ:804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量:40kg〜70kg(装置構成による) ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・Φ2inchもしくはΦ4inch基板 ◉蒸着源 ・抵抗加熱式蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基(抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで) ◉7"タッチパネル ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準)

2024年10月12日

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テルモセラ・ジャパン

◆◆◆ 【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 熱CVD装置 ◆◆◆

  • カタログニュース

多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】 ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。

2024年10月12日

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Prism_iPROS_550.png

高温アニール炉 ◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃

  • 製品ニュース

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉 ◉有効加熱範囲(るつぼ寸法) ・面状ヒーター加熱範囲:Φ2inch〜Φ6inch ・円筒状ヒーター加熱範囲:Φ30〜Φ80 x 深さMax100(H)mm ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm(*ロータリーポンプ筐体内設置) 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。

2024年10月12日

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1.jpg

□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■

  • カタログニュース

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃ ◆装置構成◆ 予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成:チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系(ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類) ◉ 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) ◉ 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◆基本仕様◆ ・ヒーター:C/Cコンポジット(カーボン炉), タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材, タングステン/モリブデン ・温度制御:プログラム温度調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置、又は外付トランスボックス ・電流、電圧計 ・ヒーター回路トリップSW ・主電源SW ◆オプション◆ ・真空排気系 ・特注るつぼ他

2024年10月12日

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MiniLab-WCF.png

ウエハーアニール炉【MiniLab-WCF】Max2000℃_超高温ウエハーアニール専用(4inch〜8inch)

  • 製品ニュース

Max2000℃ Φ6〜8inchウエハー専用高温アニール装置 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置 ◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式(多段5枚カセット) ◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御) ◾️ ヒーター材質: ・C/Cコンポジット:Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気: ・真空(1x10-2Pa)、不活性ガス(Ar, N2) ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転(オプション) ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール(MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御) ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力

2024年10月12日

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