『ビームスプリッター』は、入射光を所定の分割比で透過光と反射光の 2つの光に分割する光学部品です。 「無偏光ビームスプリッター」は、透過光のp成分 (Tp)とs成分 (Ts)及び、 反射光のp成分 (Rp)とs成分(Rs)の偏光差をほぼ均一に保っています。 この他に、光の偏光成分であるp波とs波をほとんど吸収することなく分割する 「偏光ビームスプリッター」や、比較的大きなサイズで製作が可能な 「プレート型ビームスプリッター」もご用意しております。 【ラインアップ】 ■無偏光ビームスプリッター ■偏光ビームスプリッター ■プレート型ビームスプリッター 〈ものづくり博2022 in 東三河 に出展！〉 下記基本情報欄に展示会について詳細な記載がございます。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

特定の波長や出力で発光するレーザー光源の制御向けのキューブ型無偏光ビームスプリッターとなります。 有効波長帯は広帯域ながら、P，S偏光それぞれの透過特性の差を3%以内に制御しており、 ビームの位置ズレを軽減させる様にビーム偏角（透過偏角）は2分以内での製作が可能です。 所定の波長帯に最適化したARコート (反射防止膜)を施すことで、透過効率を最大化させたり、 黒塗り処理を施すことで不要な反射（迷光）を取り除き、グレアやゴースト対策をすることも可能です。 532nmのダイオードレーザー(半導体レーザー)向け、632.8nmのヘリウム-ネオン(He-Ne) 向け、1064nmのネオジウムヤグ(Nd:YAG) 向けなど、任意の制御波長に合わせた設計が可能です。 加工や測定機器などでのライン照射や位置検出、光学処理など、半導体製造装置や自動光学検査装置などの分野で広く利用されています。

広帯域ハイブリッドタイプの無偏光ビームスプリッターは、金属膜と誘電体膜を合わせたハイブリッドの膜構成となります。 有効波長帯は広帯域ながら、P，S偏光それぞれの透過／反射特性の差を6%以内に制御しており、ビームの位置ズレを軽減させる様にビーム偏角（透過偏角）は2分以内での製作が可能です。 所定の波長帯に最適化したARコート (反射防止膜)を施すことで、透過効率を最大化させたり、黒塗り処理を施すことで不要な反射（迷光）を取り除き、グレアやゴースト対策をすることも可能です。