日精の製品ラインアップ

ダイシングリング洗浄装置のご紹介 手作業での洗浄や、外部業者への洗浄依頼による ランニングコスト増・作業負担・品質のばらつきでお困りではありませんか？ 本装置は、ダイシングフレームを自動搬送で連続洗浄できる装置です。 フレームの汚れや用途に合わせて、2種類の洗浄方式をご用意しています。 ● ジェット洗浄タイプ（ランニングコスト低減に特化したタイプ） ● スクラブ洗浄タイプ（洗浄力に特化したタイプ） ランニングコスト低減を重視した高速洗浄方式。 コストパフォーマンスを重視するラインに最適です。 お客様が日常使われているフレームの汚れに合わせ、 最適な仕様をご提案し、品質向上とコスト削減に貢献します。 ◆ テープ付きフレームにも対応（オプション） テープ（シート）付きのダイシングフレームも処理可能です。 装置内でのテープ剥がし → 洗浄まで一括で行えるため、作業効率が大きく向上します。（※オプション）

長年の経験に裏打ちされた、クリーン化技術・搬送／制御技術等を駆使し、 トータルエンジニアリング力で、お客様に最適な装置を設計・製作して参ります。 3D CADをはじめ、各種エンジニアリングツールにより、省スペースで 使い勝手の良い装置をお届いたします。 ※詳しくはPDFダウンロードまたはお問い合わせください

通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した量産向けレジスト剥離・メタルリフトオフ処理装置。 レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用することも可能で、ランニングコストの削減にも寄与致します。 ※レジスト剥離・リフトオフだけでなく、有機洗浄装置としても転用が可能です。 【特長】 ■高い剥離性能をもつ独自のジェットリフトオフ機構 ■多品種少量・生産量の変動への対応に向けた、フレキシビリテイの 向上とランニングコストの削減 ■枚葉化による品質・歩留り向上( クロスコンタミの無い精密処理の実現と面内の均一性・制御性の向上) ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。

通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発や、少量生産向けレジスト剥離・メタルリフトオフ処理装置。 手狭なスペースでも設置可能なコンパクト設計（従来機から約40％コンパクト化） レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用することも可能で、ランニングコストの削減にも寄与致します。 ※レジスト剥離・リフトオフだけでなく、有機洗浄装置としても転用が可能です。

通常ストレートノズルと、高圧ジェットノズルを併用した研究開発向けメタルリフトオフ処理装置。 コンパクトなTWPmから、搬送ユニットを省いてさらに小型化とコストメリットを追求したモデル。 レジスト剥離・リフトオフ、リンス、乾燥までをひとつのチャンバーで行う、1チャンバー完結タイプはハイスループットだけでなく、省フットプリント化にも貢献致します。また、使用した薬液を分離回収し再利用することも可能で、ランニングコストの削減にも寄与致します。 ※レジスト剥離・リフトオフだけでなく、有機洗浄装置としても転用が可能です。 【特長】 ■省フットプリント　60%削減（当社比TWPmと比較） ■1チャンバー完結 ■薬液の裏面廻り込み防止（特許） ■液・ミストの飛散、再付着防止 ※詳しくはお問合せいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。

【特徴】 ●材質や形状を問わず、高純度IPA を用いたクリーン乾燥が可能です。 ●実績が示す万全の安全対策 ●オールステンレスにより破損の危険性を排除 ●べーパーゾーン、ドライゾーンに分け持ち出しIPA を削減 ●お客様のワークに応じた仕様変更も可能 ※詳しくはPDFダウンロードまたはお問い合わせください

Amsonic Hamo社は、品質と完全な洗浄プロセスに高い評価を 頂いております。 お客様の製造ラインへ容易に省スペースで組み込むことができ、手洗浄から 自動洗浄により、オペレーションが簡易になることから人件費の削減や、 洗浄水・洗剤等のユーティリティ消費量を抑えることが可能です。 装置本体が持つ高い可能性と最低限に抑えたユーティリティ消費や 運転時間は、お客様の生産性を向上するのに繋がります。 【特長】 ■バリデートされた洗浄プロセス ■カスタマイズされた洗浄ラック ■個別にデザインされた洗浄システム ■高いエネルギー効率 ■残留水を発生させない高スペック機器仕様 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当シリーズはさまざまな工程で使用される除塵装置の基本形のクリーナーです。 2連から5連まで取り揃えており、インラインにもアウトラインにも好適。 駆動ギアに非接触のマグネットギアを採用した「RY-705B」、 上下両面クリーニングタイプの2連型クリーンローラーの「RY-505Z」 をラインアップしております。 枚葉製品やロールtoロールのラインでのお客様の様々なご要望に対応します。 【特長】 ■クリーンローラーRY-705B 　・駆動ギアに非接触のマグネットギアを採用 　・装置内からの発塵を排除する画期的なクリーンローラー ■クリーンローラーRY-505Z 　・上下に2本ずつクリーンロールを配置し除塵効果を倍増 　・自動ラインのラミネート工程や露光工程前の製品の表面除塵に好適 ■カスタマイズ製品 　お客様のワークサイズに合わせた装置を設計・製作 ※サンプルを預かり除去可能かのデモ評価も承っております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『薄板対応タイプクリーンローラー』をご紹介いたします。 「RY-1106シリーズ」は、細径の新型クリーンロールを使用 することで、薄板やフイルムの除塵が可能になりました。 また、装置駆動部分にマグネットギアを採用する事により、 ギア部分からの微少発塵を抑制。 この他にも「RFC-705A」、「RF-705A」をご用意しています。 【特長】 ■落ち込み防止 ■巻き込み防止クリーンロール ■駆動部にマグネットギアを採用 ■50μmワークのクリーニング可能 ■カスタマイズ製品 　お客様のワークサイズに合わせた装置を設計・製作 ※サンプルを預かり除去可能かのデモ評価も承っております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

お客様のご要望に合わせてカスタマイズしたユニットローラーをご提案いたします。 ロールtoロールラインや垂直方向のパスライン向けの仕様、 ライン設備への固定設置型ユニットの設計対応など様々なご要望に対応。 フイルム・基板・ガラス板などの除塵に最適です。 【特長】 ■お客様のご要望に合わせ、フルオーダーにて製作。 ■既存ライン・装置内への設置・取り付けなど様々なご要望に対応可能。 ■当社実績で2、600mmのユニットローラーを製作可能。 ■原反材料工程やスリッター工程等の長尺製品にも対応可能。 ■構造強化により製品への密着性を高め実績250m/minまでの高速流動にも対応可能。 ※サンプルを預かり除去可能かのデモ評価も承っております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

半導体業界、特に微細化プロセスにおいては、レジストの除去精度が製品の品質を大きく左右します。微細なパターン形成においては、レジスト残渣や異物の混入は致命的な欠陥を引き起こす可能性があります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、高い剥離性能と均一性を実現し、歩留まり向上に貢献します。 【活用シーン】 ・微細配線加工 ・高アスペクト比構造のレジスト除去 ・ウェーハレベルでのリフトオフ処理 【導入の効果】 ・歩留まり向上 ・品質安定化 ・ランニングコスト削減

半導体業界の微細化プロセスにおいては、レジストの精密な剥離が不可欠です。特に、高密度化が進む中で、レジスト残渣や異物の混入は、歩留まりを大きく低下させる要因となります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、昇温した有機薬液と高圧ジェットの組み合わせにより、高い剥離性能を実現します。 【活用シーン】 * 微細加工プロセスにおけるレジスト剥離 * 研究開発用途 * 少量生産 【導入の効果】 * 高い剥離性能による歩留まり向上 * 省スペース化による設置効率向上 * 薬液再利用によるランニングコスト削減

MEMS業界では、微細加工技術の高度化に伴い、レジスト剥離・リフトオフ工程における高い精度と品質が求められます。特に、ウェーハ表面の均一性や、コンタミネーションの抑制が重要であり、これらの課題を解決することが、製品の歩留まり向上に不可欠です。本装置は、昇温した有機薬液と高圧ジェットの組み合わせにより、高い剥離性能を実現。1チャンバー完結型で、ハイスループットと省フットプリント化に貢献します。 【活用シーン】 ・MEMSデバイス製造におけるレジスト剥離・リフトオフ工程 ・高精度なパターン形成が求められる工程 ・ウェーハ表面の均一性、コンタミネーション対策が必要な工程 【導入の効果】 ・高い剥離性能による歩留まり向上 ・省フットプリント化による製造ラインの効率化 ・薬液再利用によるランニングコスト削減

MEMS業界では、高精度なデバイス製造において、レジスト剥離やリフトオフ工程の品質が重要です。特に、微細加工技術を駆使するMEMSデバイスにおいては、レジストの残留や不均一な剥離が、製品の性能や信頼性に悪影響を及ぼす可能性があります。当社の枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置は、昇温した有機薬液と高圧ジェットの物理的アシストを組み合わせることで、高精度な剥離性能を実現します。 【活用シーン】 ・MEMSデバイス製造におけるレジスト剥離・リフトオフ工程 ・微細加工プロセスにおけるレジスト除去 ・研究開発用途でのレジスト剥離 【導入の効果】 ・高精度な剥離によるデバイス品質の向上 ・ハイスループット化による生産性向上 ・薬液再利用によるランニングコスト削減