大川興産の製品・サービス一覧

大川興産のフッ素系洗浄溶剤の回収装置「OK-GREEN1」は、 HFE/HFO/HFC/塩素系溶剤を含んだ廃液を入れるだけで 高品質の溶剤再生液を安定して回収することができ、 回収された溶剤は、安心して再利用が可能です。 分離回収した洗浄剤を再度使用する事で新規洗浄剤購入量を削減する事ができ、 ランニングコスト削減に寄与いたします。 電源がAC100Ｖなので、スペースがあればどこでも使用でき、 洗浄装置と配管接続する事で連続運転が可能です。 【特長】 ■廃液を入れるだけで再生液を回収可能 ■溶剤の回収率は９９％以上が可能 ■洗浄機と接続が可能 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードの上、お問い合わせ下さい。

• その他洗浄機

環境に良く、安全なフッ素系溶剤。単価が高く、手が出しづらいのが今までの欠点でした。大川興産の溶剤回収装置は、最大回収率99％の高効率で、フッ素系溶剤を導入しながら洗浄コストを下げるご提案が可能です。 【特長】 ○廃液を入れるだけで再生液を回収可能 ○溶剤の回収率は９９％以上が可能 ○洗浄機と接続が可能 ○電源がＡＣ１００Ｖなので、スペースがあればどこでも使用可能 ○産廃費用の低減が可能 ○回収された溶剤は、安心して再利用が可能 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードの上、お問い合わせ下さい。

• その他洗浄機
• 蒸留装置
• 廃液/排水処理装置

大川興産の溶剤回収装置「OK-GREEN1」は、HFE/HFC/塩素系溶剤を含んだ廃液を入れるだけで高品質の溶剤再生液を安定して回収することが可能です。 【特長】 ○廃液を入れるだけで再生液を回収可能 ○溶剤の回収率は９９％以上が可能 ○洗浄機と接続が可能 ○電源がＡＣ１００Ｖなので、スペースがあればどこでも使用可能 ○産廃費用の低減が可能 ○回収された溶剤は、安心して再利用が可能 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードの上、お問い合わせ下さい。

• その他洗浄機
• 蒸留装置
• 廃液/排水処理装置

大川興産の「脱脂洗浄機（コ・ソルベント方式）」は洗浄と乾燥で2種類の洗浄溶剤を用いることで、強力な乾燥性能が得られるため、安全性を重視した溶剤選定が可能な脱脂洗浄機です。また、蒸留装置と分離装置により、洗浄溶剤は洗浄槽に戻され、再利用されます。 【特長】 ◆洗浄溶剤を再生・再利用することで、溶剤消耗量が激減 ◆乾燥性能に優れるため、溶剤選定時には安全性を重視できる ◆洗浄物が高温にさらされる事が無いため、取扱いが容易 【詳しくはカタログダウンロードまたはお気軽にお問い合わせください】

• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置
• その他環境機器

大川興産の「脱脂洗浄機（コ・ソルベント方式）」は洗浄と乾燥で2種類の洗浄溶剤を用いることで、強力な乾燥性能が得られるため、安全性を重視した溶剤選定が可能な脱脂洗浄機です。また、蒸留装置と分離装置により、洗浄溶剤は洗浄槽に戻され、再利用されます。 【特長】 ◆洗浄溶剤を再生・再利用することで、溶剤消耗量が激減 ◆乾燥性能に優れるため、溶剤選定時には安全性を重視できる ◆洗浄物が高温にさらされる事が無いため、取扱いが容易 【詳しくはカタログダウンロードまたはお気軽にお問い合わせください】

• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置
• その他環境機器

◆塩素系溶剤洗浄機は、手動機から自動機までカスタマイズで貴社の仕様にあった洗浄機をご提案します。 ◆バスケット洗浄機、インライン洗浄機対応可能。 ◆洗浄実験も可能。 ◆対応可能溶剤 【塩素系有機溶剤】 ・塩化メチレン（ジクロロメタン） 　　メチレンクロライド、メタクレン等 ・ＡＫ－２２５（ＨＣＦＣ－２２５）

• エンジン系部品

◆有機溶剤洗浄機は、手動機から自動機までカスタマイズで貴社の仕様　　にあった洗浄機をご提案します。 ◆バスケット洗浄機、インライン洗浄機対応可能。 ◆洗浄実験も可能。 ◆対応可能溶剤 【塩素系有機溶剤】 ・塩化メチレン（ジクロロメタン） 　　メチレンクロライド、メタクレン等 ・ＡＫ－２２５（ＨＣＦＣ－２２５） 【不活性有機溶剤】 ・ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル） ・ＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）

• エンジン系部品

2種類の洗浄溶剤で洗浄と乾燥を行うコ・ソルベント方式。炭化水素系洗浄溶剤（HC溶剤）で洗浄し、HFE/HFC溶剤（リンス溶剤）でリンス・乾燥する洗浄システムです。HC溶剤中で溶解された汚れはHC真空蒸留機で蒸留再生され装置外へとたされます。リンス溶剤に持ち込まれたHC溶剤は溶剤分離装置を経て、HC溶剤とリンス溶剤は其々の洗浄槽に戻され、再利用されます。 表面張力の大きいHC溶剤で洗浄し、表面張力の小さいリンス溶剤でリンス・乾燥する為、高度な洗浄精度が期待できます。洗浄物は高温に曝される事が無い為、取扱いも容易です。 【詳しくはカタログダウンロードまたはお気軽にお問い合わせください】

• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置
• その他環境機器

炭化水素（HC)系洗浄溶剤で洗浄⇒HFE溶剤蒸気でリンス洗浄⇒乾燥工程で速乾性のあるHFE溶剤を回収（乾燥・洗浄終了）⇒取り出し HC溶剤は洗浄中、HFE蒸気に覆われ、直接空気に触れる事が無い為、引火の心配が不要。 リンス洗浄工程で使用するHFE溶剤の沸点は56℃で洗浄物の表面温度は56℃以上には上昇しません。 洗浄後の製品取り扱いが非常に簡単になります。 本装置で使用します溶剤は全て回収・再利用が可能（オプション）。 300型と600型の2機種の販売を開始します。 其々の洗浄冶具寸法は　200mm×300mm×200mmH、290mm×350mm×250mmHです。

• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置
• その他環境機器

洗浄力が高く評価されているOEL-Cleanシリーズの使用とそれを活用する多くのノウハウでメタルマスクに蒸着された有機材料を確実に制御でき、新品マスクと変わらない品質に仕上げます。 安全、安心、環境、洗浄精度、経済性、生産性を最大限に取り入れました。 リンス・乾燥には不燃性溶剤のHFEを使用する為、安全です。 HFE溶剤も蒸留機とHC/HFE分離装置により、洗浄液とHFE溶剤は新液として蘇り、再利用されます。 【特徴】 ○薄膜のマスクは熱応力に弱く、 　熱ストレスを無くすために常温で洗い上げることでこれを実現 ○蒸留機の搭載により、洗浄液は新液として蘇り、汚れ成分は 　凝縮して少量の廃液として排出するため、従来の全量液交換は不要 ○有機ELガラス基板の洗浄機も開発 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他洗浄機

ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる「水」の大半は比重分離により装置外へ取り出されます。 HFE溶剤に過飽和に溶け込んだ水分は「水分除去装置」により、装置外へ確実に取り除きます。 付着した大量の“水”はHFE液面に急速に浮上します。 【特徴】 ○乾燥に必要なエネルギー消費量が大幅に削減 ○洗浄スピードが向上 ○HFE溶剤中に含まれる微量の水分を確実に取り除く 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他洗浄機
• 乾燥機器

洗浄力が高く評価されているOEL-Cleanシリーズの使用とそれを活用する多くのノウハウでメタルマスクに蒸着された有機材料を確実に制御でき、新品マスクと変わらない品質に仕上げます。 安全、安心、環境、洗浄精度、経済性、生産性を最大限に取り入れました。 リンス・乾燥には不燃性溶剤のHFEを使用する為、安全です。 HFE溶剤も蒸留機とHC/HFE分離装置により、洗浄液とHFE溶剤は新液として蘇り、再利用されます。 【特徴】 ○薄膜のマスクは熱応力に弱く、 　熱ストレスを無くすために常温で洗い上げることでこれを実現 ○蒸留機の搭載により、洗浄液は新液として蘇り、汚れ成分は 　凝縮して少量の廃液として排出するため、従来の全量液交換は不要 ○有機ELガラス基板の洗浄装置も開発 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他洗浄機

2種類の洗浄溶剤で洗浄と乾燥を行うコ・ソルベント方式。 炭化水素系洗浄溶剤（HC溶剤）で洗浄し、HFE/HFC溶剤（リンス溶剤）でリンス・乾燥する洗浄システムです。 HC溶剤中で溶解された汚れはHC真空蒸留機で蒸留再生され装置外へとたされます。 リンス溶剤に持ち込まれたHC溶剤は溶剤分離装置を経て、HC溶剤とリンス溶剤は其々の洗浄槽に戻され、再利用されます。 【特徴】 ○経済的 　HC・HFEの蒸留装置とHC/HFE分離装置により 　洗浄溶剤は再利用される（溶剤消耗量が激減） 　溶剤の予想使用量は見積時に算出・提示します。 ○安全 　引火点の高い安全な第4類・第3類石油類の溶剤が使用可能 　非洗浄物はフッ素系洗浄溶剤の沸点温度以上には上りません ○洗浄精度 　表面張力約25nN/mの炭化水素系洗浄溶剤洗浄後 　表面張力約13.6nN/mのフッ素系洗浄溶剤でリンス・乾燥 　精度の高い洗浄結果が期待できます ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置
• その他環境機器

HFE/HFC/塩素系溶剤の廃液には未だ回収可能な溶剤が含まれています。廃液から確実に、新液同等状態の溶剤を回収します。回収後の廃液は処理の困難なフッ素系廃液ではなく、通常の廃油・産廃として処理できます。 HFE/HFC/塩素系溶剤を大量に使用されている企業様には環境・コストの両面から、OK-GREEN１のご採用をお勧めします。又、洗浄装置へ組み込む事により、洗浄中に「汚れ」だけを取り出しながら、溶剤を常に再利用しながら、洗浄する事が可能になりました。

• その他洗浄機
• 蒸留装置
• 廃液/排水処理装置

炭化水素（HC)系洗浄溶剤で洗浄⇒HFE溶剤蒸気でリンス洗浄⇒乾燥工程で速乾性のあるHFE溶剤を回収（乾燥・洗浄終了）⇒取り出し HC溶剤は洗浄中、HFE蒸気に覆われ、直接空気に触れる事が無い為、引火の心配が不要。 リンス洗浄工程で使用するHFE溶剤の沸点は56℃で洗浄物の表面温度は56℃以上には上昇しません。 洗浄後の製品取り扱いが非常に簡単になります。 本装置で使用します溶剤は全て回収・再利用が可能（オプション）。 300型と600型の2機種の販売を開始します。 其々の洗浄冶具寸法は　200㎜×300㎜×200㎜H、290㎜×350㎜×250㎜Hです。

• 超音波洗浄機
• その他半導体製造装置
• その他環境機器

光学レンズ等はアルカリ・酸・中性洗剤により洗浄され、その後、純水リンス工程を経て、HFE/HFC溶剤による乾燥システムに送られて来ます。乾燥システムに大量に持込まれる水は溶剤との比重差で簡単に装置外へと取り出す事が出来ます。洗浄後の水染み発生の原因は乾燥用溶剤中に徐々に溶け込んでいく微量の水分です。この水分を確実に低濃度に保つ事が水染み「０」に繋がるのです。弊社の開発した「水分除去装置（オプション）」を設備する事で確実・安心の乾燥工程が期待できます。 又、近日中に発売予定の「HFE／HFC中アルコール濃度自動管理装置」との組み合わせにより、より安心な乾燥システムが構築できる事になります。

• その他洗浄機
• その他半導体製造装置